Форма поиска по сайту

Резидент ОЭЗ "Технополис "Москва" разработал фотолитограф с разрешением 350 нанометров

This browser does not support the video element.

В России впервые создали фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Ключевое оборудование для производства микросхем разработала компания-резидент "Технополиса "Москва". В настоящий момент менее 10 стран способны делать подобные приборы.

В чем его уникальность? Как столичной компании удалось добиться такого успеха?

Об этом – в эфире телеканала Москва 24.